การเคลือบผิว PVD

ด้วยอุณหภูมิการเคลือบราวๆ 500°C เหมาะสำหรับแม่พิมพ์ที่ต้องการความแม่นยำของขนาดสูง สามารถเพิ่มความต้านทานการสึกหรอ ต้านทานการครูดได้อย่างดีเยี่ยม

Multi Arc Sysetem

ตัวอย่างชิ้นงานที่ผ่านกระบวนการ PVD

► ลักษณะเด่นของผิวฟิล์มแต่ละชนิด

●ชนิดฟิล์ม

●การนำไปใช้งาน

TiN	ต้านทานการเสียดสี, คุณสมบัติการปลดงานออกจากแม่พิมพ์, ต้านทานการจับติด
TiCN	ต้านทานการสึกหรอสูง, สัมประสิทธิ์แรงเสียดทานต่ำ
CrN	ต้านทานการกัดกร่อน, ทนต่อความร้อนสูง, คุณสมบัติการปลดงานออกจากแม่พิมพ์
TiAIN	มีความแข็งสูง ทนต่อความร้อนสูง (ทนต่อการเกิดออกซิเดชันที่อุณหภูมิสูง)

ความหนาของผิวฟิล์มโดยทั่วไป : 2～4μm

●ภาพตัดโครงสร้างของชั้นผิวฟิล์ม TiN

►HitenCerac (TiN ที่ได้รับการปรับปรุง)

เนื่องจากเหล็กแผ่นที่ใช้ในการขึ้นรูปในช่วงหลายปีที่ผ่านมานั้นมีความแข็งแรงที่เพิ่มสูงขึ้น ภาระที่กระทำต่อแม่พิมพ์ และความต้องการความแม่นยำของขนาดแม่พิมพ์ที่เพิ่มขึ้น จึงเป็นที่มาของการพัฒนาการเคลือบ PVD ที่ช่วยเพิ่มอายุการใช้งานของแม่พิมพ์ ที่มาพร้อมกันกับการทำเบสไนไตรด์ (Radical Nitride) สามารถเพิ่มอายุการใข้งานของแม่พิมพ์ได้มากยิ่งขึ้น

TiN ทั่วไป
(ตำแหน่งรูปศร : ต่ำแหน่งบกพร่อง ลักษณะเป็นรูพรุน หยดน้ำ)

High-Ten Cerac

ข้อพกพร่องที่มีลักษณะเป็นรูพรุนข้างต้น เป็นสาเหตุที่เนื้องานเกิดการจับติดพิมพ์ และส่งผลให้ผิวฟิล์มเกิดการลอกที่ไวขึ้น

1.ผิวชิ้นงานจับติดที่พิมพ์

2.ผิวงานพอกหนาขึ้น

3.พิมพ์เกิดรอยครูด (ผิวฟิล์มลอก)

วัตถุแปลกปลอมจับติด

►ขอบเขตการเคลือบชิ้นงาน

・PVD treatment: φ720×800 - MAX500㎏

・Nitriding: φ600×600 - MAX300㎏

★การเคลือบอาจไม่สามารถทำเฉพาะพื้นผิวได้ในบางกรณี ขึ้นอยู่กับรูปร่างและขนาดของชิ้นงาน กรุณาตรวจสอบกับทางฝ่ายขายก่อนส่งงานอีกครั้ง (โดยทั่วไป จะไม่สามารถเคลือบผิวได้ทั่วทุกบริเวณพื้นที่ผิวของชิ้นงานได้)