クリーンルーム/ドライルーム
クリーンルームテクノロジー
最先端産業の要であるクリーンルーム。当社は、長年の経験と実績によりクリーンルームの導入計画から、設計、施工、保守まで一貫したプロジェクト体制で皆様のニーズに的確にお応えします。
タカサゴ多目的クリーンルーム TCR-MP®, TCRSuper-MP® |
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天井内スペースにすべての機能を格納 |
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クリーンルームと天井裏との静圧差により、各ユニットを天井フレームに置くだけでじん埃の漏洩を防止 |
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清浄度クラスの自由な設定 |
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清浄度区分の再配置 |
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メンテナビリティ |
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天井システムのメンテナビリティ |
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安全の確保 |
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ランニングコストの低減 |
半導体製造用クリーンルーム TCR-SWIT® |
高精度環境を省エネルギー・省コストと両立させ超短工期で構築
半導体製造用クリーンルームは、超微細精密加工を高い歩留で実現するために、温度・湿度・清浄度(ガス状汚染質除去)・気流・微振動を高精度かつ安定的に制御することが必要です。
豊富な施工実績に基づき、設備システム・容量の最適化、製造ライン・生産付帯設備に踏み込んだ提案、脱ガス配慮設計技術、垂直立上げを実現する施工管理手法などを駆使し、超短工期で高品質なクリーンルームを構築します。
また、 旋回流誘引型成層空調システムSWIT®(スウィット) を用いたクリーンルーム(TCR-SWIT®)では、少ない風量で作業域を従来と同じ清浄度に維持できるため、クリーンルームの省エネルギー化も実現できます。
(特許第5636140号、特開2017-187264号)
【TCR-SWIT®(SWITを用いたクリーンルーム)内の浮遊微粒子分布の例】
ドライルーム=ドライテクノロジー
当社のドライテクノロジーは、最新の機器を駆使し露点-100℃の空気を供給でき、リチウム電池、キャパシタ、有機ELの製造などを助けます。 さらに業界一の省エネ性能を有しています。
ドライルームの構成 |
ドライルーム®の概要 |